【摘 要】
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用透射电镜,X射线衍射仪和电阻法研究了Cu-14.84wt-%Zn-7.75wt-%Al形状记忆合金在直接淬火和分级淬火后马氏体的稳定性。试验结果表明,直接淬火和分级淬火(150℃,2min)后于室温
【机 构】
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中南工业大学材料科学与工程系讲师,湖南长沙(410083)
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用透射电镜,X射线衍射仪和电阻法研究了Cu-14.84wt-%Zn-7.75wt-%Al形状记忆合金在直接淬火和分级淬火后马氏体的稳定性。试验结果表明,直接淬火和分级淬火(150℃,2min)后于室温时效约3h的马氏体均为M18R结构,但刚直接淬火后马氏体并不稳定,其某些衍射峰位置和电阻率均随室温时效而变化;而分级淬火(150℃,2min)后马氏体是稳定的,其所有衍射峰位置和电阻率几乎不随室温时效而变化。上述结果可用“马氏体再有序化机制”解释。
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