膜厚对Sb<sub>2</sub>Te<sub>3</sub>薄膜光学性质的影响

来源 :光学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:suixin2002
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超分辨近场结构光存储技术(Super-RENS)是一种利用功能薄膜结构实现突破光学衍射极限的信息点记录和读取的新技术,作为超分辨光盘结构的掩膜材料是决定其性能的关键。利用透射电子显微镜研究了可作为超分辨光盘掩膜层Sb2Te3薄膜的晶态结构、表面形貌;利用光谱仪和椭偏仪分析了其光学性质随膜厚的变化。结果表明,沉积态Sb2Te3薄膜呈弱晶状态,在一定厚度范围内,其光学性质随膜厚的不同有较大变化。当膜较薄时,其消光系数和折射率随膜厚的增加而减小;当膜厚达到一定值时,其光学常数随膜厚的增加逐渐趋于稳定,即存在膜厚影响临界值。消光系数和折射率的膜厚影响临界值分别在80 nm和50 nm左右。薄膜的光学性质与膜厚的关系可以用薄膜结构的连续性来解释。
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应用拉曼光谱和电动态平衡技术研究了单滴醋酸钠和醋酸镁的过饱和溶液,特别是对在不同相对湿度条件下的结构变化以及接触离子对的形成进行了详细讨论.
本文描述一种能在20微微秒半最大全宽内产生1焦耳的能量的红宝石脉冲激光系统。该系统是一种非普通类型的锁模振荡器,后接一个能从锁模脉冲序列中选择1毫焦耳能量单脉冲的普通的KDP普克尔斯盒偏振器组合。
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本文给出了激光热磁记录多层膜温度场分布求解的基本公式,由此评价了温度场分布对记录磁畴尺寸的影响,并以四层膜结构为例,得到了相应的数值解,有关的验证实验也同时完成,由此得到了降低记录激光功率的方案.
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用脉冲激光沉积(PLD)技术制备了ZnO/SiC/Si和 ZnO/Si薄膜并制成了紫外探测器。利用X射线衍射(XRD),光致发光(PL)谱,I-V曲线和光电响应谱对薄膜的结构和光电性能进行了研究。实验结果表明:SiC缓冲层改善了ZnO薄膜的结晶质量和光电性能,其原因可能是SiC作为柔性衬底能够减少ZnO与Si 之间大的晶格失配和热失配导致的界面缺陷和界面态。
研究了NaK(1 3Π)和He间的振动能量转移。 脉冲(泵浦)激光激发自旋禁戒跃迁1 3Π←1 1Σ , 得到亚稳电子态1 3Π的很高振动态ν=22, 21, 20, 利用激光感生荧光(LIF)探测1 3Π(ν)的弛豫过程, 由时间分辨LIF的对数描绘得到振动态的有效寿命, 从不同He密度下的有效寿命利用Stern-Volmer公式得到振动能级总的弛豫率, 对于ν=22, 21, 20, 速率系数(10-11 cm3·s-1)分别为1.4±0.1, 1.2±0.1和1.0±0.1。 速率系数随v的增大而增
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