【摘 要】
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我国深度Ｘ射线光刻技术获突破最近，由中国科学院长春光机所采用自制的加厚金掩膜，与中国科学院高能物理所密切合作，在经改进的同步辐射束线上光刻出微电机联轴器部件的光刻胶膜图
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我国深度Ｘ射线光刻技术获突破最近，由中国科学院长春光机所采用自制的加厚金掩膜，与中国科学院高能物理所密切合作，在经改进的同步辐射束线上光刻出微电机联轴器部件的光刻胶膜图形。联轴器外径直径６００微米，壁厚６０微米，高度为５００微米，深宽比达８：３。这是...
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