TiN/VCN 多层膜的力学性能及摩擦磨损性能研究

来源 :无机材料学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：paulhujq

【摘要】

：

采用多靶磁控溅射技术, 制备了 TiN、VCN 单层膜及调制比为 1：1 的系列调制周期的 TiN/VCN 多层膜. 利用 X 射线衍射仪、纳米压痕仪、高温摩擦磨损测试仪和扫描电子显微镜研究

【作者】

：

曹峻许俊华喻利花

【机构】

：

江苏科技大学江苏省先进焊接技术重点实验室

【出处】

：

无机材料学报

【发表日期】

：

2013年2期

【关键词】

：

TIN VCN 磁控溅射力学性能摩擦磨损性能 Magnéli 相 TiN/VCN magnetron sputtering mechanica

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采用多靶磁控溅射技术, 制备了 TiN、VCN 单层膜及调制比为 1：1 的系列调制周期的 TiN/VCN 多层膜. 利用 X 射线衍射仪、纳米压痕仪、高温摩擦磨损测试仪和扫描电子显微镜研究了各种薄膜的微结构、力学性能及室温和高温摩擦磨损性能. 研究表明： TiN/VCN多层膜以δ-NaCl面心立方结构为主; TiN/VCN多层膜的最大硬度值为28.71 GPa, 约为按混合法则计算所得理论硬度值的 1.23 倍, 并据此分析了 TiN/VCN 多层膜的致硬机理; TiN/VCN多层膜在室温下摩擦系数与

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