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形状记忆合金在微电(MEMS)应用日益受到人们重视。TiNi合金由于其优良的大变形、大回复力、耐蚀性和抗疲劳性能，被认为是最有前途的形状记忆合金。TiNi形状记忆(SMA)薄膜通常采用离子溅射法沉积而成，该方法沉积的薄膜除具有SMA功能外，还有与基体块相适应的超弹性。但由于钛属活性元素，沉积过程中力求控制钛的氧化物造成的污染。脉冲激光沉积(PLD)技术是一种简单、可靠、快捷的技术，它减少了TiNi形状记忆合金薄膜形成中的污染，且使沉积薄膜与基材合金成分的匹配良好。新加坡国际大学重点研究了利用PLD技术沉积