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真空镀膜技术广泛应用于现代科学技术的很多领域。起初最主要用于光学薄膜。最典型的方法是采用真空蒸发法将成膜材料按设计要求淀积在工件表面从而获得所需的反射、增透、截止、带通、偏振等效果。真空镀膜技术飞速进步，日益完善，真空镀膜技术已从以真空热蒸发法为主要手段的情况发展成包括电子柬加热蒸发、溅射、离子镀、激光蒸发以及各类化学气相沉积等许多各领域。以及在制备过程中观察膜生长情况的方法。采用蒸发镀膜，或者采用真空溅射沉积方式，在基底材料的表面形成一层薄膜的设备，间接观察成膜表面薄膜形成过程的方法。模拟技术已作为教学