Si3N4／Ti／Ni／Ti／Si3N4部分瞬间液相连接接头的强度与断裂

来源 :中国有色金属学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：jql

【摘要】

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在温度为１２７３－１４２３Ｋ，时间为０．９－７．２ｋｓ和０．１ＭＰａ压应力的条件下进行了Ｓｉ３Ｎ４／Ｔｉ／Ｎｉ／Ｔｉ／Ｓｉ３Ｎ４的部分瞬间液相连接，结合ＳＥＭ，ＥＤＳ和ＸＲＤ测试结果，分析了连接温度和时间对接头常温四点弯曲强度和断裂方式的影响。通过用反应层厚度来表征界面强度，用

【作者】

：

陈铮许金泉

【机构】

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华东船舶工业学院焊接系,浙江大学材料系

【出处】

：

中国有色金属学报

【发表日期】

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1999年A01期

【关键词】

：

接头强度残余应力陶瓷金属连接断裂 interfacial strengthjoint strengthresidual stress

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在温度为１２７３－１４２３Ｋ，时间为０．９－７．２ｋｓ和０．１ＭＰａ压应力的条件下进行了Ｓｉ３Ｎ４／Ｔｉ／Ｎｉ／Ｔｉ／Ｓｉ３Ｎ４的部分瞬间液相连接，结合ＳＥＭ，ＥＤＳ和ＸＲＤ测试结果，分析了连接温度和时间对接头常温四点弯曲强度和断裂方式的影响。通过用反应层厚度来表征界面强度，用σ＾Ｒｅｓθｍａｘ来评价近界面陶瓷断裂，用σＲｅｓθ－０来评价界面断裂，建立了界面强度、陶瓷强度和残余应力与接头强度和三种

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