磁控溅射技术制备硅纳米晶多层膜及微观结构表征

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【摘要】

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摘要：在室温下，分别利用常规磁控溅射和反应磁控溅射技术交替沉积Si薄膜和Si1-xNx薄膜在单晶硅基体上制备了Si／Si1-xNx纳米多层膜。接下来，在高温下对Si／Si1-xNx多层膜进行退火诱

【作者】

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赵志明马二云张晓静田亚萍屈直丁宇曹智睿白力静

【机构】

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西安理工大学材料科学与工程学院

【出处】

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功能材料

【发表日期】

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2012年6期

【关键词】

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磁控溅射技术 Si/Si1-xNx多层膜 Si纳米晶 Si3N4纳米晶 TEM magnetron sputtering Si/Si1-xNx multila

【基金项目】

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陕西省自然科学基金资助项目（2010JQ6008）

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摘要：在室温下，分别利用常规磁控溅射和反应磁控溅射技术交替沉积Si薄膜和Si1-xNx薄膜在单晶硅基体上制备了Si／Si1-xNx纳米多层膜。接下来，在高温下对Si／Si1-xNx多层膜进行退火诱发各层中形成硅纳米晶。研究了Si1-xNx层厚度和N2流量沉积对si／Si1-xNx多层膜中Si量子点形成的影响。TEM检测结果表明，N2流量为2．5mL／min时沉积的多层膜退火后形成了尺寸为20-30nm的等轴Si3N4纳米晶；N2流量为5．0mL／min时沉积的多层膜退火后在Si层和Si1-xNx层中均形成

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