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采用静电纺丝技术在玻璃基片表面构筑聚乙烯醇（PVA）纳米纤维网膜，以正硅酸丁酯（TEOS）为硅源，通过气相沉积法向PVA纳米纤维网膜间隙中引入Si02纳米粒子。然后以六甲基二硅氮烷（HMDS）为修饰剂，对玻璃基片表面PVA／SiO2膜进行疏水改性，从而降低其表面能。利用扫描电镜（SEM），静态水接触角（WCA）等测试手段对在玻璃表面制备的PVA／SiO2／HMDS薄膜进行了表征。结果显示，处理过的玻璃基片具有较高的粗糙度，表面水接触角（WCA）达135．7°，表明其具有很好的疏水性能。而且制备的