Mo/Si和Mo/B4C软X射线多层膜的界面热稳定性研究

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用磁控射法制备Mo/Si多层膜和Mo/B4C多层膜,并在真这中加热30min,温度为200,400,600,800和1000℃。用小角X射线衍射法和透射电镜研究不同温度下加热的样品。实验结果表明,当加热温度达600℃时,Mo/Si多层膜周期被破坏。
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