【摘 要】
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用全封闭非平衡磁控溅射技术制备Graphit-ic和Dymon-ic薄膜。利用SEM,AFM,TEM,XRD,纳米压痕仪,高温摩擦磨损试验机等研究了薄膜的微观结构、表面形貌、显微硬度以及摩擦磨损
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用全封闭非平衡磁控溅射技术制备Graphit-ic和Dymon-ic薄膜。利用SEM,AFM,TEM,XRD,纳米压痕仪,高温摩擦磨损试验机等研究了薄膜的微观结构、表面形貌、显微硬度以及摩擦磨损性能。结果表明:Graphit-ic薄膜和Dymon-ic薄膜均由非晶组织构成,薄膜均匀、致密,粗糙度小;Graphit-ic薄膜的显微硬度低于Dymon-ic薄膜;同时,在干摩擦条件下,Graphit-ic薄膜和Dymon-ic薄膜与GCr15钢球对磨时显示出良好的耐磨减摩性能,Graphit-ic薄膜的摩擦系数低于Dymon-ic薄膜,但其比磨损率却高于Dymon-ic薄膜。
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