配位剂对GH202合金化学镀镍-磷的影响

来源 :电镀与涂饰 | 被引量 : 0次 | 上传用户：healthborn

【摘要】

：

研究了配位剂CH3COONa和NH4C1对GH202合金酸性化学镀镍镀速和镀层磷含量的影响，分析了化学镀过程中镍离子和次磷酸根离子的消耗量。镀液的组成和工艺条件为：NiSO4·7H2O 80

【作者】

：

曾凡谭澄宇龙亚雄马灿

【机构】

：

中南大学有色金属材料科学与工程教育部重点实验室,中南大学材料科学与工程学院

【出处】

：

电镀与涂饰

【发表日期】

：

2014年11期

【关键词】

：

镍-磷镀层化学镀配位剂沉积速率结合力

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研究了配位剂CH3COONa和NH4C1对GH202合金酸性化学镀镍镀速和镀层磷含量的影响，分析了化学镀过程中镍离子和次磷酸根离子的消耗量。镀液的组成和工艺条件为：NiSO4·7H2O 80 g／L，NaH2PO2·H2O 24g/L，H3BO3 8 g／L，CH3COONa·H2O 6～15 g，L，NH4Cl 3～6 g/L，pH 5．0，温度85℃，时间2 h。随镀液中CH3COONa含量增加，沉积速率先增大后减小，镀层磷含量则在6．19％-10．45％范围内呈小幅波动

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