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期刊论文
晶片键合界面应力分布的理论分析
晶片键合界面应力分布的理论分析
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:higirl002
【摘 要】
:
根据双金属带的热应力分布理论,推导了晶片键合以及薄膜键合的界面应力分布公式。对影响晶片链合的剪切应力、正应力以及剥离应力的分布特性进行了讨论。
【作 者】
:
周震
孔熹峻
黄永清
任晓敏
【机 构】
:
北京邮电大学
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2003年11期
【关键词】
:
键合
剪应力
正应力
剥离应力
bondingshearing stress normal stress peeling stress
【基金项目】
:
国家自然科学基金资助项目 (批准号 :90 2 0 10 3 5,90 10 40 0 3 )~~
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根据双金属带的热应力分布理论,推导了晶片键合以及薄膜键合的界面应力分布公式。对影响晶片链合的剪切应力、正应力以及剥离应力的分布特性进行了讨论。
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