【摘 要】
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利用射频磁控溅射法通过调节硅（Si）靶的溅射功率制备了不同的富硅氧化硅（SiOx,1〈x〈2）薄膜。通过高温热处理,得到了镶嵌在SiOx薄膜中的硅纳米晶（Si-NCs）。而SiOx薄膜热处理后的光
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利用射频磁控溅射法通过调节硅（Si）靶的溅射功率制备了不同的富硅氧化硅（SiOx,1〈x〈2）薄膜。通过高温热处理,得到了镶嵌在SiOx薄膜中的硅纳米晶（Si-NCs）。而SiOx薄膜热处理后的光致发光（PL）强度及其MOS器件的导电性都存在随其硅含量的增大而先增强后减弱的趋势,且光致发光有一定的红移现象。这是由于随着硅含量的增大,SiOx薄膜中Si-NCs的结构与分布发生改变,形成＂接触＂Si-NCs,从而使得光学和电学性能发生改变。
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