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研究了反应磁控溅射的动力学过程.理论分析与试验结果表明:反应气体流量随其压力的变化呈滞后效应,最佳镀膜工艺位于滞后区域.给出了金属靶阴极表面溅射清洗效果的伏安特性评价法,为克服'靶中毒'提供了有效的技术途径.
反应磁控溅射工艺中的滞后效应研究
【摘 要】
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研究了反应磁控溅射的动力学过程.理论分析与试验结果表明:反应气体流量随其压力的变化呈滞后效应,最佳镀膜工艺位于滞后区域.给出了金属靶阴极表面溅射清洗效果的伏安特性评
【机 构】
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华南理工大学电信学院
【出 处】
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真空与低温
【发表日期】
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2003年4期
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