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阐明了表面预灰化的直接正性过程的机理，讨论了具有物理晶格缺陷和化学结构缺陷的内敏乳剂的制备和直接正性乳剂中电子陷阱和空穴陷阱的性质，并提出了改善直接正性乳剂照相性能的原则。
直接正性卤化银成像体系的电子和离子过程
【摘 要】
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阐明了表面预灰化的直接正性过程的机理，讨论了具有物理晶格缺陷和化学结构缺陷的内敏乳剂的制备和直接正性乳剂中电子陷阱和空穴陷阱的性质，并提出了改善直接正性乳剂照相性能
【出 处】
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感光材料
【发表日期】
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1994年6期
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