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丁二酰亚胺无氰镀银工艺
丁二酰亚胺无氰镀银工艺
来源 :表面技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhangkl
【摘 要】
:
研究了丁二酰亚胺无氰镀银工艺中各组分含量的变化,对银镀层在附着力、光亮度等方面性能的影响,找出各自的最佳配比;通过改变阴极电流密度、pH值考察对银镀层质量的影响,找出
【作 者】
:
周永璋
丁毅
陈步荣
【机 构】
:
南京工业大学材料学院
【出 处】
:
表面技术
【发表日期】
:
2003年4期
【关键词】
:
丁二酰亚胺
无氰镀银
外观
结合力
电沉积速度
阴极电流效率
Butanedimide
Cyanide-free sliver plating
Appear
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研究了丁二酰亚胺无氰镀银工艺中各组分含量的变化,对银镀层在附着力、光亮度等方面性能的影响,找出各自的最佳配比;通过改变阴极电流密度、pH值考察对银镀层质量的影响,找出最佳工艺条件,得到适宜的丁二酰亚胺无氰镀银工艺.
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