Nc-Si Thin Film Deposited at Low Temperature and Nc-Si Heterojunction Solar Cel

来源 :Journal of Shanghai Jiaotong University | 被引量 : 0次 | 上传用户：a547189644

【摘要】

：

This paper reported some results about intrinsic nanocrystalline silicon thin films deposited by high frequency (HF) sputtering on p-type c-Si substrates at low

【作者】

：

赵占霞崔容强孟凡英于化丛周之斌

【机构】

：

Dept.ofPhysics

【出处】

：

Journal of Shanghai Jiaotong University

【发表日期】

：

2004年4期

【关键词】

：

HF喷涂低温纳米结晶硅异质结太阳电池薄膜 HF sputtering low temperature nanocrystalline silicon

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This paper reported some results about intrinsic nanocrystalline silicon thin films deposited by high frequency (HF) sputtering on p-type c-Si substrates at low temperature. Samples were examined by atomic force microscopy (AFM), X-ray diffraction (XRD),

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