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Al+MgF2膜是真空紫外波段常用的一种反射膜。根据薄膜光学的电磁场理论计算了正入射条件下Al+MgF2膜在真空紫外波段的反射率随氟化镁膜厚度的变化规律。研究了Al+MgF2膜的制备工艺，利用Seya-Namioka紫外-真空紫外反射率计测得Al+MgF2膜的反射率在150nm～340nm的波段上高于80%。Al+MgF2膜制备一年后，其真空紫外波段的反射率未有明显变化。