近空间升华法氧气氛下CdTe源的性能

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhouxifengli
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在用近空间升华法制备CdTe多晶薄膜时,由于CdTe源在有02的环境下多次使用,造成了源表面氧化,进而失效,严重影响所沉积的CdTe多晶薄膜性能.文中研究了多次使用后CdTe源结构形貌、成分等性能.结果表明:多次使用后的CdTe源表面有变黄的趋势,源表面有CdO粉末的存在,经Hz在一定条件的高温还原,可以去除表面的氧化物,为源的重复使用奠定基础.
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