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采用脉冲激光沉积（PLD）方法,在SrTiO3（100）衬底上在650℃、10Pa N2条件下成功制备了立方结构的AlN薄膜。高能电子衍射（RHEED）及X射线衍射（XRD）分析表明立方AlN和SrTiO3的外延关系为AlN[100]∥SrTiO3[100]和AlN（200）∥SrTiO3（100）。其AlN（200）衍射峰的摇摆曲线半高宽（FWHM）为0.44°,说明薄膜结晶性能良好。原子力显微镜（AFM）表明外延的立方AlN薄膜表面具有原子级平整度,其表面均方根粗糙度（RMS）为0.674n