【摘 要】
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新一代高性能薄膜的触媒化学气相沉积(Calalytic Chemical Vapor Deposition)Cat-CVD方法是在下图(b)所示的装置中进行。原料气在基板附近安置的触媒体发生接触分解,传输至基
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新一代高性能薄膜的触媒化学气相沉积(Calalytic Chemical Vapor Deposition)Cat-CVD方法是在下图(b)所示的装置中进行。原料气在基板附近安置的触媒体发生接触分解,传输至基板区域,在基板上因承受少的热量致使在400℃以下的低温基板上形成高质量薄膜。
The Catly CVD method for the next generation of high performance thin film catalysts is shown in Figure (b) below. The raw material gas is contacted and decomposed on the substrate disposed near the substrate and transported to the substrate region to form a high quality thin film on the substrate at a low temperature of 400 ° C. due to less heat.
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