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本文利用俄歇能谱和红外吸收谱研究了硅中O~+(200keV,1.8×10~(18)/cm~2)和N~+(180keV,4×10~(17)/cm~2)共注入、并经1200℃、2h退火后所形成的绝缘埋层的微观结构及其光学性质。结果表明:O~+和N~+共注入所形成的绝缘埋层是由SiO_2相和不饱和氧化硅态组成;在氧化硅埋层的两侧形成氮氧化硅薄层;表面硅-埋层的界面和埋层-体硅的界面的化学结构无明显差异。通过对波数范围在5000—1700cm~(-1)的红外反射谱的计算机模拟,得到了该绝缘埋层