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先进工艺技术节点的光学临近效应修正(Optical Proximity Correction, OPC)及其依赖光刻机和光刻工艺的属性,导致经OPC修正后的掩模板难以在不同型号的光刻机之间转移。针对该问题,本文充分考虑光刻机台的焦距模糊扰动对光刻机台的匹配影响,建立可应用于焦距模糊扰动条件下的光刻机台的匹配方法,以期提高光刻工艺在不同机台上的光刻机台匹配效率。