2,2′-联吡啶在化学镀铜中的作用研究

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研究了以次磷酸钠作还原剂的化学镀铜体系,添加剂2,2'-联吡啶对化学镀铜沉积速率、次磷酸钠阳极氧化和铜离子阴极还原、以及镀层形貌、结构和组分存在状态的影响.结果表明,2,2'-联吡啶对化学沉积起阻化作用.电化学线性伏安扫描实验显示,镀液中加入2,2'-联吡啶,次磷酸钠的氧化峰电势有所负移,但峰电流减小;铜离子的还原峰电势负移,但峰电流逐渐增大.扫描电子显微镜(SEM)、能量色散谱(EDS)、X射线衍射(XRD)及X射线光电子能谱(XPS)等实验分别表明,添加剂使镀层致密和光亮、镍含量降低;镀层为Cu-Ni
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