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研究基于简单解析表达式的电子背散射系数与入射电子能量、介质厚度和能损的关系及其对电子束辐射加工的影响，考虑到入射电子在多层介质之间反复的穿透和背散射，编制了ＥＤ４１０程序，计算了不同补底材料和不同入射电子能量下能量沉积的深度分布和剂量因子，利用补底要 背散射抬高接近补底界面处的剂量，较大地改善了辐射加工的均匀性。