一种简单多极磁约束的反应离子刻蚀装置的研究

来源 :华南理工大学学报:自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:guanshui5
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本文叙述了多极磁约束的反应离子刻蚀装置。该装置具有结构简单,低损伤和各向异性刻蚀的优点。在射频率为100W,工作压强为1.33Pa氩气氛中,典型的离子密度为)1.0-1.5)×10^19cm^-3,电子温度为1.0-4.1eV,等离子体电位10-50V,有磁场的离了密度比没有磁场的离子密度大几个数量级。
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