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利用高桥模型讨论了高反射光学薄膜的温度稳定性问题,理论上着重分析了高反射膜主反射光谱带边缘线性区域波长位置处反射率温度系数以及膜料和基底热物理参数对它的影响,得出该系数正比于膜料的热物理参数,而反比于基底的线性热膨胀系数。对于文中分析的样品,其温度稳定性受高折射率材料的折射率温度系数影响最大。
高反射光学薄膜的温度稳定性分析
【摘 要】
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利用高桥模型讨论了高反射光学薄膜的温度稳定性问题,理论上着重分析了高反射膜主反射光谱带边缘线性区域波长位置处反射率温度系数以及膜料和基底热物理参数对它的影响,得出
【机 构】
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重庆邮电大学光电工程学院,南昌大学物理系
【出 处】
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光电子技术
【发表日期】
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2010年4期
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目（60907041）, 重庆邮电大学科研基金资助项目（A2009-05）
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