【摘 要】
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以离子束溅射沉积(IBSD)方法制备了Al2O3、Nb2O5单层膜，用红外可变角度光谱椭圆偏振仪(IR-VASE)测试了薄膜的光学常数。用原子力显微镜(AFM)测量了单层膜的表面形貌及表面粗糙度，计算了单个表面的总积分散射(TIS)。以Nb2O5 和Al2O3 为高低折射率材料设计并制备了2.7 μm 高反射膜。最后对单层膜进行了环境实验检测。结果表明，制备的薄膜在中红外波段具有高的折射率和低的消光系数，光滑的表面特性和极低的表面散射损耗；在2.7 μm 波段没有发现由于水吸收导致的消光系数的增大；制备的
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所,四川成都610209中国科学院大学,北京100039
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以离子束溅射沉积(IBSD)方法制备了Al2O3、Nb2O5单层膜，用红外可变角度光谱椭圆偏振仪(IR-VASE)测试了薄膜的光学常数。用原子力显微镜(AFM)测量了单层膜的表面形貌及表面粗糙度，计算了单个表面的总积分散射(TIS)。以Nb2O5 和Al2O3 为高低折射率材料设计并制备了2.7 μm 高反射膜。最后对单层膜进行了环境实验检测。结果表明，制备的薄膜在中红外波段具有高的折射率和低的消光系数，光滑的表面特性和极低的表面散射损耗；在2.7 μm 波段没有发现由于水吸收导致的消光系数的增大；制备的反射膜在2.7 μm 反射率达到了99.63%，接近于理论计算值。薄膜顺利通过了一系列环境实验，显示其优良的环境稳定性。
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