化学机械抛光技术的研究进展

来源 :上海大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:talen
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化学机械抛光(chemical mechanical polishing,简称CMP)技术几乎是迄今惟一的可以提供全局平面化的表面精加工技术,可广泛用于集成电路芯片、计算机硬磁盘、微型机械系统(MEMS)、光学玻璃等表面的平整化.该文综述了CMP技术的研究现状,指出了CMP急待解决的技术和理论问题,并对其发展方向进行了展望.
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