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涂层通过单一制备方法的工艺改进往往很难进一步改善组织及提高性能，涂层的电子束熔覆后处理为这一技术难题的解决提供了一条新的途径，使涂层性能得到进一步提高。为此，总结了电子束熔覆技术的原理，综述了国内、外涂层电子束熔覆技术的研究现状和最新进展，着重介绍了电子束涂层熔覆工艺参数对涂层组织及性能的影响，分析了电子束熔覆扫描均匀性问题，并对此方面研究内容做了介绍，针对目前涂层电子束熔覆技术面临的问题提出了解决途径。