多弧离子镀(Ti,Cr)N膜层工艺及性能

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用多弧离子镀膜机,以W6Mo5Cr4V2高速钢为基体材料,镀覆(Ti,Cr)N多元膜,研究了多弧离子镀工艺对膜层性能的影响,确定了最佳镀膜工艺参数,探讨了多元膜层的强化机理.结果表明:膜层硬度及膜基结合力随偏压的增大而增大,膜层硬度随氮分压的升高而增大,孔隙率随氮分压的升高而增大.(Ti,Cr)N多元膜层强化机理主要是:晶粒细化、固溶强化、多元素优化.
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