【摘 要】
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本文采用传统的高温固相反应法制备Ba0.85 Ca0.15 Ti0.9 Zr0.1O3( BCTZ)陶瓷靶材,并利用脉冲激光沉积(PLD)法,在生长有SrRuO3底电极的SrTiO3(100)衬底上沉积BCTZ(BCTZ/SRO/ST
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本文采用传统的高温固相反应法制备Ba0.85 Ca0.15 Ti0.9 Zr0.1O3( BCTZ)陶瓷靶材,并利用脉冲激光沉积(PLD)法,在生长有SrRuO3底电极的SrTiO3(100)衬底上沉积BCTZ(BCTZ/SRO/STO)薄膜。通过对其生长工艺的探索,在沉积温度780℃,氧压13 Pa,靶间距48 mm,脉冲激光频率2 Hz,激光能量200 mJ的条件下可获得高择优取向、高结晶度的BCTZ薄膜。在此工艺条件下,制备不同膜厚的BCTZ薄膜。进一步利用X射线衍射仪( XRD)、原子力显微镜( AFM)、台阶仪、铁电测试仪等手段对薄膜的微观结构、厚度和铁电性能进行表征分析。结果表明,所制备薄膜的表面粗糙度随着薄膜厚度的增加而变大。薄膜的铁电性呈现出与薄膜厚度的强相关性,即随着薄膜厚度的增加,BCTZ薄膜的剩余极化值(2Pr)逐渐增大,矫顽场强度(Ec)逐渐减小。
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