退火温度对多弧离子镀法制备TiO2涂层显微结构与性能的影响研究

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本文采用多弧离子镀技术在玻璃基底上制备光催化性能良好的TiO2涂层,并对TiO2涂层分别进行400℃、500℃和600℃的退火处理并系统研究退火温度对涂层结构与性能的影响.使用X射线衍射(XRD)分析了不同退火温度时,TiO2涂层晶体显微结构的变化.结果表明:当退火温度由400℃上升至600℃时,TiO2涂层的晶体结构由锐钛矿相变成锐钛矿和金红石混晶相.使用扫描电镜(SEM)分析了不同温度退火处理的TiO2涂层的表面形貌;随着退火温度升高,颗粒的尺寸变大.光催化实验结果表明,所得涂层具有良好光催化活性;涂
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