论文部分内容阅读
XHREM——横断面HREM技术是研究薄膜,特别是外延膜的结构和膜与衬底晶格间匹配情况以及衬底表面平整性对外延膜影响的有力工具。本文对用了磁控溅射法在SrTiO<sub>3</sub>和LaAlO<sub>3</sub>两种衬底上制备的高T<sub>c</sub>氧化物超导薄膜的界面状态及膜的微观结构等做了晶格象观察。所观察的薄膜是超导临界电流密度(J<sub>c</sub>)大于10<sup>6&