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ULSI制造中的层间介质化学机械抛光的发展趋势和要求进行了讨论。分析了铜化学机械抛光的材料去除过程，讨论了酸性和碱性两种铜抛光液的组成和一些组分的功能．指出了今后抛光液的研究发展方向。
ULSl制造中铜OMP抛光液研究
【摘 要】
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ULSI制造中的层间介质化学机械抛光的发展趋势和要求进行了讨论。分析了铜化学机械抛光的材料去除过程，讨论了酸性和碱性两种铜抛光液的组成和一些组分的功能．指出了今后抛光液
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十五研究所
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2008年2期
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