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研究了采用熔盐热析出反在无压烧结氮化硅陶瓷表面生成的钛金属膜与陶瓷基体的界面反应机理和反应层显微结构，研究了不同反应温度下的界面反应产物及其分布规律，并探讨了界面反应的机理 。
Si3N4／Ti界面反应机理及界面层的显微结构
【摘 要】
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研究了采用熔盐热析出反在无压烧结氮化硅陶瓷表面生成的钛金属膜与陶瓷基体的界面反应机理和反应层显微结构，研究了不同反应温度下的界面反应产物及其分布规律，并探讨了界面反
【机 构】
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清华大学材料科学与工程系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室
【出 处】
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硅酸盐学报
【发表日期】
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1997年3期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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