论文部分内容阅读
基于弹性力学的接触理论，研究了导向环、工件与抛光垫接触的压力场分布形态，提出了通过改变压头变形板的悬伸长度和厚度改变接触区域的压强分布的新技术，从而实现了均衡压力场研磨和抛光，利用该技术可使半导体晶片的抛光过程中获得均匀一致的材料去除，并且在给定的实验条件下使平面度达０．２５～０．３３μｍ／Х７６ｍｍ，表面粗糙度Ｒａ值分布不大于５％。