【摘 要】
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通过原子层沉积（ALD）技术以三甲基铝和水作为前驱体在二硝酰胺铵（ADN）表面沉积氧化铝包覆膜。分别采用扫描电子显微镜（SEM）,X射线光电子能谱（XPS）对包覆后ADN的表面形貌、化学成分进
【机 构】
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西安近代化学研究所材料表面工程与纳米修饰实验室,西安近代化学研究所燃烧与爆炸技术重点实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金(21203146)~~
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通过原子层沉积（ALD）技术以三甲基铝和水作为前驱体在二硝酰胺铵（ADN）表面沉积氧化铝包覆膜。分别采用扫描电子显微镜（SEM）,X射线光电子能谱（XPS）对包覆后ADN的表面形貌、化学成分进行了分析,通过蒸汽吸附分析仪（VSA）对包覆氧化铝薄膜的ADN样品进行了吸湿性测试,并且对ADN表面氧化铝薄膜生成机理进行了探讨。结果表明：ALD氧化铝薄膜对ADN表面形成了完整的包覆,薄膜厚度最高可达数百纳米。包覆有ALD氧化铝薄膜的ADN样品暴露在潮湿空气中48 h形貌不发生明显变化。在25℃,湿度70%的环境条
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