【摘 要】
：
在进行高精度曲率半径测量时, 三点支撑方式会引入测量误差。对该误差进行了理论分析及有限元仿真, 并通过实验对仿真结果进行了验证。结果表明, 支撑形变中的旋转对称误差项导致测量结果失准。在特定实验条件下, 得到的补偿量小于70 nm, 基于此对三点支撑下的曲率半径测量值进行补偿, 可以提高测量精度。
【机 构】
：
苏州市职业大学机电工程学院,江苏苏州215104
论文部分内容阅读
在进行高精度曲率半径测量时, 三点支撑方式会引入测量误差。对该误差进行了理论分析及有限元仿真, 并通过实验对仿真结果进行了验证。结果表明, 支撑形变中的旋转对称误差项导致测量结果失准。在特定实验条件下, 得到的补偿量小于70 nm, 基于此对三点支撑下的曲率半径测量值进行补偿, 可以提高测量精度。
其他文献
半导体光刻技术带动着光源逐步向短波辐射方向发展,以KrF-248 nm、ArF-193 nm光源为代表的准分子激光光刻光源逐步取代了以往基于汞灯的光刻光源,成为当前半导体光刻技术发展的主流光源。目前应用于光刻光源的光学元件主要以在深紫外波段具有优异传输特性的氟化钙(CaF2)材料为主。针对光源研发过程中涉及的光学元件与激光相互作用时会发生损伤的问题,从CaF2材料自身的物化特性、激光辐射特性以及激光与材料相互作用产生损伤的机理三个方面,综合分析了CaF2材料抗紫外激光研究的发展情况,比较了不同应用背景下C
日本Minato电子公司根据多普勒效应发展了一种非接触型速度-转数差异测量系统，名叫6000系列II型系统。从前，用于测量转数差异的一般方法是把光学编码器直接装入测量目标，测量精度受编码器精度的影响，还有滑出位置的可能。编码器对目标还附加了负载。
基于微面元P-G模型, 结合涂层材料的表面特征, 对半经验遮蔽函数进行了改进, 推导了一种基于散射光偏振度反演复折射率的方法, 开展了中绿涂层材料偏振散射实验, 讨论了相关参量对偏振度和反演误差的影响。研究表明, 入射角对偏振度和反演误差的影响较大, 其次为折射率实部、虚部和探测角; 反演结果能客观地反映涂层材料的复折射率, 反演误差小于2%, 可作为一种涂层材料复折射率反演的新方法, 在目标识别领域有着重要的应用价值。
有机-无机金属卤化物钙钛矿材料具有可溶液加工性、良好色纯度和发光波长易调节等优点,易于制备低成本高分辨率的发光显示器件。研究了包含甲基胺(MA )和乙基胺(EA )的混合阳离子钙钛矿材料,其发光波长可以通过改变MA 和EA 的比例进行调节。混合EA 可以显著降低材料缺陷态密度,提高发光量子产率和光稳定性。采用该材料制备的绿光器件的最大外量子效率为7.7%,功率效率为25.1 lm·W -1,分别为MAPbBr3器件的1.9倍和1.7倍,器件稳定性有一定程度的提高。
A thermally tuned multi-channel interference widely tunable semiconductor laser is designed and demonstrated, for the first time to our knowledge, that realizes a tuning range of more than 45 nm, side-mode suppression ratios up to 56 dB, and Lorentzian li
在光学系统装调中, 由于光学元件的面型误差、加工误差等影响因素的存在, 使待装调的光学系统的装调失调量并非为一个确定的准值, 而是一个范围值, 在失调量范围内, 可能存在不止一组Zernike系数符合要求, 即以像差值为判据的装调结果的解不唯一, 需要对光学系统的其他参数进行测试判断光学系统在装调阶段是否满足技术要求。介绍了一种在装调过程中, 当各项像差的Zernike系数接近设计时, 利用干涉仪、分划板、五棱镜、经纬仪等设备, 在波前测试光路中采用猫眼效应进行装调过程中的光学系统焦距的测试方法, 通过光