【摘 要】
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目的:纯钛表面电化学聚合聚吡咯涂层并研究其表面性能.方法:采用恒电流法以0.25mA/cm2、1mA/cm2、4mA/cm2的电流密度制备两种支撑电解质Cl-和ToS-的纯钛表面聚吡咯涂层.利用S
【机 构】
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西安第四军医大学口腔医学院,西安交通大学电子信息工程学院
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目的:纯钛表面电化学聚合聚吡咯涂层并研究其表面性能.方法:采用恒电流法以0.25mA/cm2、1mA/cm2、4mA/cm2的电流密度制备两种支撑电解质Cl-和ToS-的纯钛表面聚吡咯涂层.利用SEM、表面粗糙度仪以及接触角测量仪检测涂层表面性能.结果:随聚合电流密度增大,表面粗糙度 (Ra 、Rz值)和表面接触角逐渐增大,而表面自由能逐渐减小.在相同的聚合密度电流下,ToS-搀杂组的表面粗糙度 (Ra 、Rz值)、表面接触角均大于Cl-搀杂组;而表面自由能则小于Cl-搀杂组.结论:聚吡咯的表面性质,如表
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