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向TiAlN薄膜中添加V可改善薄膜性能。采用磁控溅射技术沉积了不同V含量的TiAlVN薄膜，通过能谱仪、台阶仪、X射线衍射仪（XRD）和原子力显微镜（AFM）分析薄膜的成分、厚度、相结构和表面形貌，用动电位极化的方法研究薄膜的抗腐蚀性能。结果表明：TiAlN薄膜属于面心立方（fcc）和六方密排（hcp）二重结构，晶格常量比TiAlN薄膜小，晶粒尺寸比TiAlN薄膜大，含V10．20％的TiAlVN薄膜质量相对较好；TiAlN薄膜的腐蚀电流明显小于TiAlN薄膜，抗腐蚀性能增强，含V10．20％的TiAlV