【摘 要】
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利用直流磁控溅射法,在铝基片、玻璃基片上制备了钽膜.研究了氩气压力、阴极电流、系统本底真空度、溅射时间等工艺条件对钽膜性能及厚度的影响,并对钽膜的物理性能及电学性
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利用直流磁控溅射法,在铝基片、玻璃基片上制备了钽膜.研究了氩气压力、阴极电流、系统本底真空度、溅射时间等工艺条件对钽膜性能及厚度的影响,并对钽膜的物理性能及电学性能进行了研究.结果表明,钽镀层的厚度主要与钽靶功率、氩气分压及溅射时间有关;当氩气压力、电流一定时,钽镀层的厚度与溅射时间近似地成正比关系.利用3 A/(8 min)、4 A/(6 min)、5 A/(3 min)各5片铝基片镀钽的样品制成了医用CT检测器信号接受盒,获得的X-ray电信号分别为30万、32万、34万单位,达到并超过了国际同类产品
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