影响超精密环抛相对磨削量因素的计算模拟

来源 :光电工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：weishuren33

【摘要】

：

利用Preston方程,考虑了超精密环抛中的诸因素,如工件和磨盘转速比、偏心距以及压强,计算模拟了它们对磨削效果的影响.模拟表明,当转速比越接近1或偏心距越大时,磨削越均匀;

【作者】

：

曹冲冯国英杨李茗王岚高耀辉朱海波陈建

【机构】

：

四川大学电子信息学院,成都精密光学工程研究中心

【出处】

：

光电工程

【发表日期】

：

2004年4期

【关键词】

：

连续环行抛光压强梯度偏心距转速比 Continuous polishing Pressure gradation Eccentric distan

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利用Preston方程,考虑了超精密环抛中的诸因素,如工件和磨盘转速比、偏心距以及压强,计算模拟了它们对磨削效果的影响.模拟表明,当转速比越接近1或偏心距越大时,磨削越均匀;均匀分布的压强越大,磨削越不均匀.在这三个影响因素中,转速比的作用最为显著.实现均匀磨削所需的压强应为二次型分布.这些为超精密环抛提供了指导,有助于实现主动控制.

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