【摘 要】
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利用自组装技术将3-巯基丙基三乙氧基硅烷薄膜沉积在单面抛光的单晶硅基片上。用X射线光电子能谱仪测量薄膜的化学成分；用原子力显微镜（AFM）观察薄膜表面形貌；用接触角测量仪测量
【机 构】
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中国矿业大学材料科学与工程学院,中国矿业大学化工学院,中石油海外勘探开发公司
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利用自组装技术将3-巯基丙基三乙氧基硅烷薄膜沉积在单面抛光的单晶硅基片上。用X射线光电子能谱仪测量薄膜的化学成分；用原子力显微镜（AFM）观察薄膜表面形貌；用接触角测量仪测量薄膜的接触角；在摩擦试验机上考察薄膜的摩擦学性能与接触角之间的关系。结果表明：薄膜的接触角随着组装时间的增加先增加后减小然后再增加，表明MPTS分子在单晶硅基片上的自组装是逐层进行的，当MPTS完成一层组装时，其薄膜表面自由能较低，所表现出的接触角较大；薄膜的摩擦磨损性能与接触角成对应关系，接触角增大，摩擦因数减小，抗磨损能力提高。
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