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类金刚石膜因其高的硬度、高的介电性、低的摩擦系数、优异的光学和化学性能以及巨大的潜在应用前景而成为研究热点。采用离子增加化学气相沉积方法在Si基底表面制备含氢类金刚石薄膜，通过XPS能谱测试，确定膜层的成份组成，膜层中除了含有碳以外还含少量的吸附的氧。调节反应源气体中H：的比例，结果表明H2的含量直接影响DLC薄膜的性能。随着H。的含量增大，膜层的表面粗糙度降低，膜层的硬度变大，而应力相应增大。这是由于反应源气体中H2含量的增加，DLC薄膜中氢的含量反而降低，膜层内sp2团簇结构的无序性增加，sp2键的比