【摘 要】
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美国KLA公司研制的SEMSPEC圆片外观检测装置使用电子束,把检测灵敏度提高到0.1μm,去年公布了成果,受到了良好的评价。这次已应用于实际图形的圆片检查。它主要检测光学装置
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美国KLA公司研制的SEMSPEC圆片外观检测装置使用电子束,把检测灵敏度提高到0.1μm,去年公布了成果,受到了良好的评价。这次已应用于实际图形的圆片检查。它主要检测光学装置不易检测的0.35μm以下的圆片,可使检测效率提高10倍以上。
The SEMSPEC wafer appearance inspection device developed by the United States KLA company, using electron beam, the detection sensitivity increased to 0.1μm, announced the results last year, has been a good evaluation. This time it has been applied to the actual graphic wafer inspection. It mainly detects the optical device is not easy to detect the following 0.35μm wafer, the detection efficiency can be improved more than 10 times.
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