【摘 要】
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以热表面电离质谱计用铼带为基底材料,对比了多种电镀铂体系。结果表明,磷酸盐体系电镀效果最好。分析了各种工艺参数对镀层质量的影响,确定了铼基电镀铂的最佳工艺条件为:H2
【机 构】
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中国工程物理研究院核物理与化学研究所
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以热表面电离质谱计用铼带为基底材料,对比了多种电镀铂体系。结果表明,磷酸盐体系电镀效果最好。分析了各种工艺参数对镀层质量的影响,确定了铼基电镀铂的最佳工艺条件为:H2PtCl6(以Pt计)0.2g/L,(NH4)2HPO440g/L,Na2HPO4140g/L,十二烷基磺酸钠0.01g/L,温度85°C,阴极电流密度4A/dm2,电镀时间20min。适当的真空热处理有助于获得光亮平整、结合力良好的镀层。X射线能谱分析表明,铂镀层厚度可达微米级。
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