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GSMBE生长掺杂Si及GeSi／Si合金及其电学性质研究

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：mixiaoya2008
【摘 要】
：
用气态源分子束外延法对Ｓｉ及ＧｅＳｉ／Ｓｉ合金进行了Ｎ，Ｐ型掺杂研究。，结果表明，杂质在外延层中的掺入行为取决于生长过程中乙硅烷与相关掺杂气体的竞争吸附与脱附过程，所获得的Ｎ型及Ｐ型载流子浓度范
【作 者】
：
刘学锋 刘金平 
【机 构】
：
中国科学院半导体研究所材料中心
【出 处】
：
半导体学报
【发表日期】
：
1998年12期
【关键词】
：
GSMBE 硅 硅化锗 掺杂 外延生长 Doping (additives)Molecular beam epitaxy 
【基金项目】
：
国家“九五”攻关项目
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用气态源分子束外延法对Ｓｉ及ＧｅＳｉ／Ｓｉ合金进行了Ｎ，Ｐ型掺杂研究。，结果表明，杂质在外延层中的掺入行为取决于生长过程中乙硅烷与相关掺杂气体的竞争吸附与脱附过程，所获得的Ｎ型及Ｐ型载流子浓度范围分别为１．５×１０＾－１６－４．０×１０＾１９ｃｍ＾－３及１．０×１０＾－７－２．０×１０＾１９ｃｍ＾－３，基于对Ｎ型Ｓｉ外处材料中迁移率与杂质浓度，温度的关系，我们用Ｋｌａａｓｓｅｎ实验结果进行拟合，分
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