【摘 要】
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表面分析是近十多年来迅速发展的新型分析技术。它被广泛应用于半导体、催化、冶金、腐蚀、钝化、涂膜、粘合、摩损以及晶体生长、渗杂、注入、外延等领域。据统计,表面分析
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表面分析是近十多年来迅速发展的新型分析技术。它被广泛应用于半导体、催化、冶金、腐蚀、钝化、涂膜、粘合、摩损以及晶体生长、渗杂、注入、外延等领域。据统计,表面分析技术已多达五十余种,其中最常用的是俄歇电子能谱(AES)、X射线光电子能谱
Surface analysis is the rapid development of new analytical techniques in recent ten years. It is widely used in semiconductors, catalysis, metallurgy, corrosion, passivation, coating, bonding, wear and tear and crystal growth, miscibility, injection, epitaxy and other fields. According to statistics, surface analysis has reached more than 50 kinds of technology, the most commonly used is Auger electron spectroscopy (AES), X-ray photoelectron spectroscopy
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